<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Glue on Infrared Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://ir-qz-heating.com/cs/tags/glue/</link>
		<description>Recent content in Glue on Infrared Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 08:21:27 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-qz-heating.com/cs/tags/glue/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Zasychání v infračerveném spektru pro lepidla na polovodiče</title>
				<link>http://ir-qz-heating.com/cs/posts/infrared-curing-for-semiconductor-glue/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:21:27 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-qz-heating.com/cs/posts/infrared-curing-for-semiconductor-glue/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-qz-heating.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Zasychání v infračerveném spektru pro lepidla na polovodiče&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V prostorách výroby není „vysychání lepidla“ jen dalším krokem v procesu výroby. Jde o otázku teplotní kontroly – což má velký vliv na kvalitu výsledného výrobku. Stejná disciplína platí i pro měkké a tvrdé zahřívání fotorezistů: teplota musí být konzistentní. Leptiva používaná při spojování částic také vyžadují stejnou konzistenci. Pokud dojde k odchylkám v teplotě v horké zóně, objeví se problémy s lepkavostí a selhání spojení.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co jsme do systému začlenili&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Nastavili&lt;/a&gt; jsme proces vysychání pomocí infračerveného záření, které odpovídá absorpčním pásům lepidla. Energie tak &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;putuje&lt;/a&gt; tam, kam potřebuje – rychle a bez nadměrného zatížení podkladu. Horká zóna udržuje rovnost teploty na celé ploše waferu s odchylkou ±0,1 °C. Komora je navržena pro provoz v čistých prostorách třídy 1–100, přičemž generace částic je minimalizována. Konzistentnost teploty mezi jednotlivými cykly zajišťuje správné parametry procesu výroby.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
