Mehr

Verringerung der Wärmeentwicklung an den Geräten in Halbleitertechnologiegeräten durch gerichtete IR Hüllen

Verringerung der Zykluszeiten bei der Herstellung von Wasserstoffsensoren – Infrarot Verfahren im Vergleich zur Luftzirkulation

Sicherstellung der Sicherheit von Infrarotheizlampen in umgebungen mit explosiven Chemikalien

Verhinderung der Kontamination von Wafern durch sicheres Design bei UHP Infrarotheizlampe

Optimierung der Herstellung von Kohlenstoffnanoröhren durch gezielte Infrarotbeheizung

Sicherstellung der Sicherheit in umgebungen mit explosiven Chemikalien mithilfe von Infrarotheizern in Teflonhülle

Verringerung des Kohlenstofffußabdrucks von Halbleitern mithilfe von Vakuum Infrarot Heizsystemen

Verringerung der Zeitaufwände bei der Herstellung von Biosensoren – Infrarotheizung gegenüber Warmluftzirkulation

Maximierung der Strahlungsenergie Dichte bei der Waferbearbeitung durch mit Gold beschichtete Reflektoren

Sicherstellung der elektrischen Sicherheit bei Infrarotheizrohren durch 100 Dämpfungs und Isolierprüfungen