TEL (Tokyo Electron) Heizlampe

Thu, 18 Jun 2026 04:07:52 +0800

In der Lithografieabteilung reicht bereits eine Temperaturänderung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Photoresists aus, um die kritischen Abmessungen außerhalb der gesetzten Spezifikationen zu bringen – was wiederum dazu führt, dass viele Produkte als unbrauchbar gelten. Die Heizlampen von TEL sind so konzipiert, dass sie berücksichtigen, dass Temperatur nicht nur eine Zahl auf dem Bildschirm ist – sondern vielmehr ein wichtiger Faktor für die Qualität des Ergebnisses.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Infrarotlampen mit präziser Spektralkontrolle – dadurch passen sie zur Absorptionseigenschaften des Quarzes und können den Wafer immer wieder effektiv erwärmen. Die Homogenität der Temperatur auf der Oberfläche des Wafers liegt bei ±0,1 °C. Die Kompatibilität mit Reinräumen der Klassen 1–100 wird durch Materialien mit geringer Gasemission sowie durch das Fehlen von Partikeln gewährleistet. Das System arbeitet 24/7 – mit vorhersehbaren Wartungsintervallen – sodass es zu keinen unplanmäßigen Stillständen kommt.

Elektron) on Infrared Quartz Heating Systems

TEL (Tokyo Electron) Heizlampe