Trocknen on Infrared Quartz Heating Systems

Heizgerät zum Trocknen von MEMS Sensor Wafern

Wed, 22 Jul 2026 04:30:06 +0800

Reduzierung des Kohlenstoffausstoßes beim Trocknen von MEMS-Wafern
Wir ersetzen die alten, unpraktischen Konvektionsöfen durch Infrarot-Hebelampen beim Trocknen unserer MEMS-Sensorwafern. Das Ziel ist ganz einfach: Die Feuchtigkeit von den Wafern schneller entfernen und dabei weniger Energie verbrauchen.

Wenn Sie schon einmal in einer Fertigungsfabrik gearbeitet haben, wissen Sie, wie viel Energie nötig ist, um eine große Menge Luft zu erhitzen – nur damit ein winziger Siliziumblock getrocknet werden kann. Das ist eine Verschwendung. Der Übergang zu einer „grünen Fabrik“ bedeutet letztlich nichts anderes als die Beendigung dieser Verschwendung.

Energieaudit für die Trocknungsanlage

Thu, 09 Jul 2026 05:09:20 +0800

Einführung
Wir haben diese Infrarotheizlampen mit einem bestimmten Ziel im Kopf entwickelt – nämlich die Produktionsstätten. Denn bei einer Energieprüfung braucht man Wärme, die gezielt eingesetzt werden kann – und nicht einfach nur Wärme, die überallhin strahlt.

Traditionelle Konvektionsheizungen heizen die Luft auf – das bedeutet jedoch, dass Geld verschwendet wird. Unser anspruchsvolles Heizsystem bringt die Wärme genau dorthin, wo sie benötigt wird – also direkt auf das Zielobjekt. Dadurch entfällt das Problem, dass Halbleiterausrüstung von innen her zu heiß wird – ein Problem, das immer dadurch entsteht, dass die Wärme dort verbreitet wird, wo sie nicht hingehört.

Lampe zum Trocknen von Solarzell Wafers

Wed, 24 Jun 2026 03:54:59 +0800

Beobachten Sie, wie eine Waferplatte aus der Feuchtigkeitsbehandlungslösung herauskommt. Wenn die Trockenlampe nicht effektiv arbeitet, bleibt Feuchtigkeit auf der Waferplatte zurück – dadurch beginnt das Photoresist-Material abzulösen. Dadurch sinkt die Ausschussrate. Wir haben unsere Trockenlampe für Solarzellen so konzipiert, dass dieses Problem vermieden wird.

Was im Inneren der Lampe wichtig ist: Die Lampe nutzt NIR-Strahler zur schnellen, gleichmäßigen Erwärmung der Waferplatte – ohne dass das Substrat dabei beschädigt wird. Die thermische Homogenität auf der Waferplatte bleibt bei ±0,1°C, sodass die Einstellungen für die Weich- und Harttrocknung konstant bleiben – Lot für Lot. Die Lampe funktioniert in Reinräumen der Klasse 1–100 ohne dass es zu Partikelausstoß kommt. Dadurch bleiben die Defektzahlen im gewünschten Bereich. Es wird eine zuverlässige Steuerung der Einstellungen gewährleistet, sowie eine hohe Betriebszeit – sogar über 5.000 Stunden hinweg.