Heizer zur Stützung des Wafers beim Rückenschleifen

Sun, 21 Jun 2026 06:02:11 +0800

Bei der 300-mm-Fertigung spielt bei der Verdünnung der Wafer weniger die reine Kraft ein, sondern vielmehr die Kontrolle des thermischen Gleichgewichts. Wenn der Unterstützungsheizer aus dem Gleichgewicht gerät, wird der Chuck heiß – dadurch weicht das Klebematerial auf und der Wafer beginnt sich zu krümmen. Man sieht nicht sofort einen katastrophalen Ausfall. Erst später treten Risse an den Rändern des Wafers auf sowie ein Rückgang der Qualität des Wafers.

Was wirklich wichtig ist
Der Unterstützungsheizer in unserer Wafer-Rückgrindmaschine nutzt eine schnelle, stabile Infrarotheizung mit hoher Gleichmäßigkeit. In der Produktion halten wir die Temperatur auf der Unterstützungsfläche des Wafers bei ±0,1°C – dadurch bleibt die Temperatur des Chucks konstant. Das Design ist für Reinräume bis zur Klasse 100 geeignet. Jedes Material wird so gewählt, dass keine Partikel entstehen – es kommt weder zu Ausgasungen noch zu Ablagerungen. Der Heizer arbeitet 24/7 und bietet eine Zuverlässigkeit, die eine vollständige Ausfallsfreiheit gewährleistet. Zudem ermöglicht er eine präzise Temperaturregelung während der Trocknung des Fotolacks – auch dann, wenn keine Lithografieprozesse stattfinden.

Wafel on Infrared Quartz Heating Systems

Heizer zur Stützung des Wafers beim Rückenschleifen