En la línea de procesamiento FO-WLP, es en la etapa de cocción donde el rendimiento del proceso disminuye gradualmente. Una cocción suave, con una diferencia de temperatura de 2°C, puede alterar el perfil del fotorresistente. Por otro lado, si se utiliza una cocción intensa, se generan vacíos y deformaciones en la estructura del wafer. Es necesario mantener una uniformidad térmica en toda la superficie del wafer, mientras el tiempo sigue avanzando.
Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico Hemos diseñado calentadores de nivel de wafer para los hornos de cocción y las placas calientes que se utilizan entre las etapas de litografía y moldeado. Los emisores de halógeno de onda corta permiten una respuesta rápida y directa; además, logramos mantener una uniformidad térmica de ±0.1°C en toda la superficie activa del wafer. El cuerpo del calentador está hecho de cuarzo y cerámica de alta pureza, lo que permite mantener un nivel mínimo de partículas en las salas limpias de clase 1–100.
La repetibilidad térmica es de ±0.2°C entre diferentes ciclos de cocción, lo que garantiza que los perfiles de cocción se mantengan dentro de los parámetros establecidos. El control se realiza mediante sistema PID, con compatibilidad con SECS/GEM, lo que permite tener parámetros de configuración, velocidades de calentamiento y tiempos de exposición bien definidos.
Por qué esto funciona en FO-WLP En FO-WLP, los componentes heterogéneos se agrupan en un compuesto específico, y luego se redistribuyen las conexiones I/O. El presupuesto térmico es muy limitado: es necesario evitar que se produzca migración del cobre o estrés debido a cambios en la constante térmica de expansión. Este calentador permite mantener una curva de cocción precisa, lo que mejora el control de las dimensiones críticas y reduce el riesgo de defectos en las conexiones.
La alta uniformidad térmica reduce la cantidad de piezas defectuosas en las conexiones RDL, mientras que la repetibilidad acorta los ciclos de validación. El consumo energético también disminuye, ya que el emisor se calienta solo cuando es necesario, con una masa térmica mínima. Estos calentadores están diseñados para funcionar 24/7, contando con períodos de mantenimiento programados, en lugar de tiempos de inactividad imprevistos.
Algunas notas prácticas Este calentador es compatible con la mayoría de las plataformas de placa caliente utilizadas en FO-WLP. Sin embargo, su integración depende del diseño mecánico, del sistema de sujeción por vacío y de la distribución de los conductos de escape. Asegúrese de que la tensión y el tipo de conector sean adecuados para su equipo. Después de reemplazar la lámpara, hay un breve período de estabilización; planifique este tiempo dentro de los horarios de mantenimiento, para que los perfiles de cocción se mantengan dentro de los parámetros establecidos.