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		<title>Empaque on Infrared Quartz Heating Systems</title>
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		<description>Recent content in Empaque on Infrared Quartz Heating Systems</description>
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				<title>Calentador para envasado a nivel de oblea _con dispersión radial</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-qz-heating.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Calentador para envasado a nivel de oblea _con dispersión radial&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la línea de procesamiento FO-WLP, es en la etapa de cocción donde el rendimiento del proceso disminuye gradualmente. Una cocción suave, con una diferencia de temperatura de 2°C, puede alterar el perfil del fotorresistente. Por otro lado, si se utiliza una cocción intensa, se generan vacíos y deformaciones en la estructura del wafer. Es necesario mantener una uniformidad térmica en toda la superficie del wafer, mientras el tiempo sigue avanzando.&lt;/p&gt;</description>
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