<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>طرفدار on Infrared Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://ir-qz-heating.com/fa/tags/%D8%B7%D8%B1%D9%81%D8%AF%D8%A7%D8%B1/</link>
		<description>Recent content in طرفدار on Infrared Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 04:54:05 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-qz-heating.com/fa/tags/%D8%B7%D8%B1%D9%81%D8%AF%D8%A7%D8%B1/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>گرمکن بستهبندی در سطح ویفر</title>
				<link>http://ir-qz-heating.com/fa/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 04:54:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-qz-heating.com/fa/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-qz-heating.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;گرمکن بستهبندی در سطح ویفر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند FO-WLP، مرحله پختن، همان جایی است که بازدهی محصول به تدریج کاهش می‌یابد. پختن نرم با دمای ۲ درجه سانتی‌گراد، باعث اختلال در پروفایل رزیست فوتوگرافیک می‌شود. اگر پختن با دمای بالا انجام شود، منجر به ایجاد حفره‌ها و تغییرات شکلی در قطعات می‌شود. بنابراین، باید برای داشتن یکپارچگی حرارتی در سطح ویفر تلاش کرد، در حالی که زمان به طور مداوم در حال گذر است.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;از نظر فنی، چه چیزی مهم است؟&lt;/strong&gt;&#xA;ما هیترهایی برای فرآیند پختن در فرآیندهای FO-WLP ساخته‌ایم؛ این هیترها بین مرحله لیتوگرافی و قالب‌گیری قرار می‌گیرند. منابع نوری کوتاه‌امواج، پاسخ سریع و مستقیمی ارائه می‌دهند؛ همچنین، یکپارچگی حرارتی در سطح ویفر را تا ±۰٫۱ درجه سانتی‌گراد حفظ می‌کنند. بدنه هیتر از کوارتز و سرامیک با خلوص بالا ساخته شده است؛ بنابراین تولید ذرات در اتاق‌های تمیز کلاس ۱–۱۰۰ به حداقل می‌رسد.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
