http://ir-qz-heating.com/fa/tags/%D9%81%D9%88%D8%AA%D9%88%D8%B1%D8%B2%DB%8C%D8%B3%D8%AA/ Recent content in فوتورزیست on Infrared Quartz Heating Systems Hugo fa Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800 http://ir-qz-heating.com/fa/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/ Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800 http://ir-qz-heating.com/fa/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="دمای پخت ملایم رزیست فوتونیکی IR"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، اختلاف نیم درجه‌ای در دمای حرارت‌دهی به فوتورزیست، موضوع بی‌اهمیتی نیست. این اختلاف باعث تغییر ضخامت خطوط، باقی ماندن حلال‌ها در فوتورزیست، و کاهش بازدهی تولید می‌شود؛ مواردی که هیچ بازرسی‌ای نمی‌تواند آن‌ها را توضیح دهد. ما ماژول‌های حرارت‌دهی IR را طوری طراحی کرده‌ایم که این عدم قطعیت‌ها را از بین ببرند؛ زیرا خشک کردن ویفرها و پردازش فوتورزیست، نیازمند حرارت قابل پیش‌بینی است، نه حدس و گمان.</p> <p><strong>آنچه در پشت صحنه اهمیت دارد</strong><br> ما از امیترهای مادون‌قرمز با طول موج کوتاه برای هماهنگ کردن انرژی با باند جذب حلال‌های فوتورزیست استفاده می‌کنیم؛ به این ترتیب، انرژی مستقیماً به فیلم فوتورزیست منتقل می‌شود، بدون اینکه سطح ویفر دچار گرمای شدید شود. نتیجه، گرمایش سریع و بدون تماس با ویفر است؛ همچنین، یکنواختی دما در سطح ویفر حدود ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد است. کنترل این فرآیند از طریق سنسورهای دقیق و پروفایل‌های حرارتی انجام می‌شود؛ بنابراین، عملکرد فرآیند در تمام مراحل، یکنواخت خواهد بود. این سیستم در اتاق‌های پاکسازی درجه ۱ تا ۱۰۰ کار می‌کند؛ همچنین، طوری طراحی شده است که هیچ ذره‌ای تولید نشود و تعداد نقص‌ها در ویفر کاهش یابد.</p>