Arrêtez de gaspiller de la chaleur lors du traitement des wafers Le problème avec les environnements sous vide, c’est que la convection disparaît complètement. On dépend donc de la radiation pour transférer la chaleur. Or, si cette énergie ne touche pas le substrat, elle est simplement perdue. C’est de l’énergie gaspillée, que les systèmes de refroidissement doivent alors s’efforcer d’éliminer. C’est pourquoi nous utilisons des réflecteurs recouverts d’or. C’est la solution logique. Pourquoi l’or ? Les réflecteurs en aluminium standard fonctionnent bien pendant un certain temps, mais ils ont tendance à se détériorer sous forte chaleur et en raison des cycles répétés de vide. L’or, lui, est différent : il gère beaucoup mieux le spectre infrarouge, renvoyant une grande partie de ces photons directement vers le wafer. Il ne s’agit pas vraiment de “plus de chaleur”, mais plutôt decontrôle. Au lieu d’augmenter simplement la puissance et d’espérer le meilleur, on concentre l’énergie là où elle est nécessaire. Résultat : un profil de température uniforme sur tout le wafer. La partie difficile Installer ces réflecteurs dans un espace restreint n’est pas toujours facile. La couche d’or est très fine, et elle est également sensible. Si un technicien raye accidentellement ce revêtement pendant l’installation, cela crée un point froid sur le wafer. C’est une petite erreur qui peut causer de gros problèmes. De plus, il y a le problème de la densité de puissance. Comme l’or renvoie tant d’énergie, la lampe elle-même devient plus chaude. On ne peut pas simplement installer ces réflecteurs sans se soucier de leur fonctionnement ; il faut s’assurer que les systèmes de refroidissement peuvent gérer cette charge supplémentaire. Sinon, les filaments se brûleront bien plus rapidement que prévu. Les avantages Les avantages valent bien les efforts déployés. On atteint plus rapidement les températures souhaitées, ce qui réduit les temps de traitement. De plus, comme l’énergie est bien concentrée, il est possible de diminuer la consommation totale d’énergie tout en maintenant la température du wafer à un niveau approprié. C’est une manière simple d’augmenter le nombre de wafers traités, sans avoir besoin d’ajouter davantage de chauffages.