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		<title>Hors on Infrared Quartz Heating Systems</title>
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		<description>Recent content in Hors on Infrared Quartz Heating Systems</description>
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				<title>Chauffeur de conditionnement au niveau de la wafer en éventail</title>
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				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 04:54:05 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-qz-heating.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Chauffeur de conditionnement au niveau de la wafer en éventail&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne FO-WLP, c’est lors de l’étape de cuisson que le rendement diminue progressivement. Une cuisson légère, avec une variation de température de 2 °C, peut perturber le profil du photorésistant. En revanche, une cuisson intense entraîne des défauts tels que des vides sous le revêtement ou des déformations. Il est donc nécessaire de maintenir une uniformité thermique maximale sur toute la surface de la puce, tout en respectant les délais impartis.&lt;/p&gt;</description>
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