Séchage on Infrared Quartz Heating Systems

Chauffage de séchage des wafers de capteurs MEMS

Wed, 22 Jul 2026 04:30:06 +0800

Réduction de l’émission de carbone lors du séchage des wafer MEMS
Nous remplaçons progressivement ces anciens fours à convection par des lampes à chauffage infrarouge pour le séchage des wafer de capteurs MEMS. L’objectif est simple : éliminer plus rapidement l’eau présente sur les wafer et réduire la consommation d’énergie.
Si vous avez déjà travaillé dans une usine de fabrication, vous savez à quel point il faut d’énergie pour chauffer un grand volume d’air juste afin de sécher un petit morceau de silicium. C’est un gaspillage. Passer à des méthodes de production « vertes » signifie donc simplement mettre fin à ce gaspillage.

Audit énergétique pour le séchage en usine

Thu, 09 Jul 2026 05:09:20 +0800

Introduction
Nous avons conçu ces lampes de chauffage infrarouge en ayant un objectif bien précis à l’esprit : les usines de fabrication. En effet, lors d’une analyse énergétique, on a besoin de chaleur ciblée, et non pas une chaleur qui se répand partout dans la pièce.
Le chauffage par convection traditionnel ? Il réchauffe l’air, ce qui signifie que de l’énergie est gaspillée inutilement. Notre approche directionnelle permet de diriger la chaleur exactement là où elle est nécessaire – sur la cible. Cela évite donc le problème des équipements à semi-conducteurs qui deviennent extrêmement chauds à l’intérieur, ce qui est causé par la diffusion inappropriée de la chaleur.

Lampe de séchage de wafer de cellule solaire

Wed, 24 Jun 2026 03:54:59 +0800

Voyez comment une tranche de silicium quitte la station de traitement humide. Si la lampe de séchage ne fonctionne pas correctement, vous verrez de l’humidité rester sur la tranche ; par conséquent, le photorésiste commencera à se détacher. Cela a un impact négatif sur le rendement des lots produits. Nous avons conçu notre lampe de séchage pour éviter ce problème.

Ce qui est important, c’est que cette lampe utilise des émetteurs à lumière infrarouge pour assurer un chauffage rapide et uniforme, permettant ainsi de sécher la tranche sans endommager le substrat. L’uniformité thermique reste dans les limites de ±0,1°C, ce qui garantit que les paramètres de séchage restent constants d’un lot à l’autre. Elle peut fonctionner dans des salles propres de classe 1–100, sans ajouter de particules, ce qui permet de maintenir un faible nombre de défauts. Vous obtenez donc un contrôle précis des paramètres de fonctionnement, une disponibilité fiable, ainsi qu’un rendement stable même après 5 000 heures de fonctionnement.