Pada proses FO-WLP, tahap pemanasan merupakan tahap di mana tingkat keberhasilan produksi bisa menurun secara perlahan. Jika suhu pemanasan terlalu rendah, misalnya sekitar 2°C, maka profil fotoresist akan terganggu. Sebaliknya, jika suhu pemanasan terlalu tinggi, maka akan timbul masalah seperti adanya rongga di bawah lapisan isolasi dan kekerutan pada permukaan wafer. Kita perlu memastikan bahwa suhu pemanasan tetap seragam di seluruh permukaan wafer, sambil tetap memperhatikan waktu yang tersedia untuk proses pemanasan.
Yang penting secara teknis Kami telah merancang alat pemanas berbasis wafer level packaging untuk digunakan pada oven pemanasan dan pelat panas yang berada di antara proses litografi dan pembentukan cetakan. Emitter berbahan halogen berfrekuensi tinggi memungkinkan respons yang cepat dan tepat, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer dapat dikontrol hingga ±0,1°C. Badan pemanas terbuat dari kuarsa dan keramik berkualitas tinggi, sehingga jumlah partikel yang dihasilkan sangat rendah, bahkan di ruang bersih kelas 1–100 sekalipun.
Repetibilitas suhu mencapai ±0,2°C antara setiap kali pengoperasian, sehingga profil pemanasan tetap sesuai dengan spesifikasi yang ditetapkan. Kontrol suhu dilakukan menggunakan sistem PID, sehingga parameter seperti titik penyetelan suhu, laju pemanasan, dan waktu pemanasan dapat dikendalikan dengan baik.
Mengapa hal ini efektif untuk FO-WLP Pada proses FO-WLP, komponen-komponen yang berbeda digabungkan dalam cetakan tertentu, lalu I/O-nya didistribusikan ulang. Batasan terhadap suhu sangat ketat; kita perlu memastikan bahwa proses aktivasi fotoresist berjalan lancar, tanpa menyebabkan perpindahan tembaga atau tekanan akibat perubahan panjang termal. Alat pemanas ini dapat mengontrol suhu pemanasan dengan sangat presisi, sehingga kontrol dimensi kritis menjadi lebih baik, dan risiko munculnya cacat pada permukaan wafer berkurang.
Keseragaman suhu yang tinggi juga membantu mengurangi jumlah wafer yang gagal dalam proses produksi. Penggunaan energi pun berkurang, karena emitor hanya panas saat diperlukan saja, dengan massa termal yang minimal. Alat ini dirancang untuk beroperasi 24/7, dengan dukungan jadwal pemeliharaan yang terencana, bukan masa downtime yang tidak terduga.
Beberapa catatan praktis Alat pemanas ini cocok untuk sebagian besar platform pelat panas pada proses FO-WLP. Namun, integrasinya bergantung pada desain mekanisnya, sistem penghisap vakum, serta saluran udara yang digunakan. Pastikan tegangan dan jenis koneksi sesuai dengan peralatan yang digunakan. Setelah lampu diganti, diperlukan waktu pemrosesan singkat agar suhu pemanasan kembali normal. Waktu ini perlu dimasukkan ke dalam jadwal pemeliharaan rutin, agar profil pemanasan tetap sesuai spesifikasi.