Suhu pemanggangan photoresist yang lembut jenis IR

Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800

Di fasilitas litografi, penyimpangan sebesar setengah derajat dalam proses pemanasan fotoresist bukanlah hal yang dapat diabaikan. Penyimpangan ini berdampak pada lebar garis yang dihasilkan, retensi pelarut, serta penurunan tingkat efisiensi produksi, dan hal-hal ini tidak dapat dijelaskan melalui audit apa pun. Kami menciptakan modul pemanasan IR khusus untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut, karena proses pengeringan wafer dan pemrosesan fotoresist membutuhkan suhu yang tetap, bukan dugaan semata.

Yang penting adalah hal-hal teknisnya
Kami menyesuaikan emitor inframerah berpanjang gelombang pendek dengan rentang penyerapan pelarut fotoresist yang umum digunakan, sehingga energi dapat masuk ke dalam lapisan fotoresist tanpa membuat substrat menjadi terlalu panas. Hasilnya adalah pemanasan yang cepat dan merata, dengan variasi suhu sekitar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Kontrol proses dilakukan secara tertutup, menggunakan sensor yang telah dikalibrasi, sehingga suhu dapat dikontrol dengan tepat untuk setiap proses—baik itu proses pemanasan ringan, pemanasan intensif, maupun pemanasan setelah aplikasi fotoresist—tanpa adanya penyimpangan akibat campur tangan manusia. Sistem ini beroperasi di ruang bersih kelas 1–100, dan dirancang agar tidak menghasilkan partikel apa pun, sehingga jumlah cacat pada wafer tetap rendah.

Fotorezistan on Infrared Quartz Heating Systems

Suhu pemanggangan photoresist yang lembut jenis IR