http://ir-qz-heating.com/id/tags/kwarsa/ Recent content in Kwarsa on Infrared Quartz Heating Systems Hugo id Wed, 22 Jul 2026 04:43:33 +0800 http://ir-qz-heating.com/id/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ Wed, 22 Jul 2026 04:43:33 +0800 http://ir-qz-heating.com/id/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Pelindung kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi"></p> <p><strong>Hentikan pemborosan energi di pabrik produksi wafer</strong><br> Sejujurnya, pemborosan energi di pabrik produksi wafer merupakan kesalahan desain yang umum terjadi. Ketika lampu berdaya tinggi digunakan untuk memanaskan wafer, sebagian besar energi inframerah tersebut hilang begitu saja. Energi tersebut merambat ke arah yang salah, bukan ke tempat yang seharusnya dipanaskan. Kita mengatasi hal ini dengan menggunakan pelindung berbahan kaca kuarsa yang dilapisi emas.</p> <p>Anggaplah pelindung ini sebagai cermin berkualitas tinggi. Pelindung ini tidak hanya menutupi lampu, tetapi juga mendorong seluruh energi yang dihasilkan ke arah wafer.</p> http://ir-qz-heating.com/id/posts/quartz-heater-tube-for-fab-oven/ Wed, 01 Jul 2026 12:30:51 +0800 http://ir-qz-heating.com/id/posts/quartz-heater-tube-for-fab-oven/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Tabung pemanas kuarsa untuk oven fabrikasi"></p> <p>Di fasilitas <a href="https://henruite.com">produksi</a>, proses pemanasan photoresist bukanlah sekadar langkah pemanasan awal saja. Proses ini merupakan bagian penting dalam siklus produksi tersebut.</p> <p>Jika suhu pemanasan dinaikkan sebesar 1°C saja, maka akan terjadi perubahan pada profil CD, sudut dinding samping, dan peningkatan tingkat kecacatan pada produk yang dihasilkan. Tabung pemanas berbahan kuarsa harus mampu menghasilkan panas yang konsisten—tanpa adanya partikel yang dihasilkan, dan tanpa adanya perubahan suhu yang signifikan.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam desain tabung pemanas ini?</strong> Kami merancang tabung pemanas ini agar dapat memberikan panas yang konsisten untuk wafer tipis, serta memastikan stabilitas yang tinggi selama proses litografi. Di area yang aktif, keseragaman suhu tetap dipertahankan pada kisaran ±0,1°C, sehingga titik ekspansi suhu tetap stabil meski beban kerja berubah-ubah. Gelombang inframerah menawarkan respons yang cepat, sehingga waktu pemanasan berkurang, dan waktu siklus produksi tetap terjaga.</p>