<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Penggemar on Infrared Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://ir-qz-heating.com/id/tags/penggemar/</link>
		<description>Recent content in Penggemar on Infrared Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 04:54:05 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-qz-heating.com/id/tags/penggemar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk pengemasan pada tingkat wafer</title>
				<link>http://ir-qz-heating.com/id/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 04:54:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-qz-heating.com/id/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-qz-heating.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk pengemasan pada tingkat wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses FO-WLP, tahap pemanasan merupakan tahap di mana tingkat keberhasilan produksi bisa menurun secara perlahan. Jika suhu pemanasan terlalu rendah, misalnya sekitar 2°C, maka profil fotoresist akan terganggu. Sebaliknya, jika suhu pemanasan terlalu tinggi, maka akan timbul masalah seperti adanya rongga di bawah lapisan isolasi dan kekerutan pada permukaan wafer. Kita perlu memastikan bahwa suhu pemanasan tetap seragam di seluruh permukaan wafer, sambil tetap memperhatikan waktu yang tersedia untuk proses pemanasan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Yang penting secara teknis&lt;/strong&gt;&#xA;Kami telah merancang alat pemanas berbasis wafer level &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;packaging&lt;/a&gt; untuk digunakan pada oven pemanasan dan pelat panas yang berada di antara proses litografi dan pembentukan cetakan. Emitter berbahan halogen berfrekuensi tinggi memungkinkan respons yang cepat dan tepat, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer dapat dikontrol hingga ±0,1°C. Badan pemanas terbuat dari kuarsa dan keramik berkualitas tinggi, sehingga jumlah partikel yang dihasilkan sangat rendah, bahkan di ruang bersih kelas 1–100 sekalipun.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
