http://ir-qz-heating.com/id/tags/tingkat/ Recent content in Tingkat on Infrared Quartz Heating Systems Hugo id Tue, 30 Jun 2026 04:54:05 +0800 http://ir-qz-heating.com/id/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/ Tue, 30 Jun 2026 04:54:05 +0800 http://ir-qz-heating.com/id/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Pemanas untuk pengemasan pada tingkat wafer"></p> <p>Pada proses FO-WLP, tahap pemanasan merupakan tahap di mana tingkat keberhasilan produksi bisa menurun secara perlahan. Jika suhu pemanasan terlalu rendah, misalnya sekitar 2°C, maka profil fotoresist akan terganggu. Sebaliknya, jika suhu pemanasan terlalu tinggi, maka akan timbul masalah seperti adanya rongga di bawah lapisan isolasi dan kekerutan pada permukaan wafer. Kita perlu memastikan bahwa suhu pemanasan tetap seragam di seluruh permukaan wafer, sambil tetap memperhatikan waktu yang tersedia untuk proses pemanasan.</p> <p><strong>Yang penting secara teknis</strong> Kami telah merancang alat pemanas berbasis wafer level <a href="https://o-yate.net">packaging</a> untuk digunakan pada oven pemanasan dan pelat panas yang berada di antara proses litografi dan pembentukan cetakan. Emitter berbahan halogen berfrekuensi tinggi memungkinkan respons yang cepat dan tepat, sehingga suhu di seluruh permukaan wafer dapat dikontrol hingga ±0,1°C. Badan pemanas terbuat dari kuarsa dan keramik berkualitas tinggi, sehingga jumlah partikel yang dihasilkan sangat rendah, bahkan di ruang bersih kelas 1–100 sekalipun.</p> http://ir-qz-heating.com/id/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/ Tue, 09 Jun 2026 03:28:42 +0800 http://ir-qz-heating.com/id/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Pemanas CSP (Chip Scale Package) tingkat wafer"></p> <p>Out on the packaging floor, pemanas CSP yang berhenti akan menghentikan seluruh lini. Setiap menit waktu henti tak terencana berarti wafer terbuang dan margin menguap. Kami merancang pemanas wafer-level CSP untuk beroperasi 7×24 tanpa memicu kesalahan, karena saat Anda mengejar hasil produksi, waktu operasi adalah prioritas utama.</p> <p>Apa yang penting secara teknis<br> Kami menspesifikasikan keseragaman suhu ±0,1°C di seluruh wafer, sehingga setiap proses soft bake dan hard bake photoresist berada dalam batas termal yang ditentukan—tanpa bias di tepi. Pemanas ini siap digunakan di cleanroom dari Class 1 hingga Class 100, dengan geometri yang dirancang untuk menghasilkan nol partikel. Tidak perlu scrub tambahan. Tidak ada penurunan hasil produksi.</p>