TEL (Tokyo Electron) lampu pemanas

Thu, 18 Jun 2026 04:07:52 +0800

Di proses litografi, perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan fotoresist sudah cukup untuk membuat dimensi-dimensi kritis tidak memenuhi standar yang ditetapkan, sehingga mengakibatkan pemborosan bahan yang banyak. Lampu pemanas TEL dirancang dengan memperhatikan fakta bahwa suhu bukan sekadar angka yang tertera di layar—itu merupakan faktor penting dalam proses pembentukan pola pada wafer.

Yang benar-benar penting adalah… Kami menggunakan lampu inframerah berpanjang gelombang pendek yang memiliki kontrol spektral yang ketat, agar sinarnya dapat sesuai dengan karakteristik penyerapan kuarsa dan dapat menyinari wafer secara efektif, berulang-ulang. Kestabilan suhu pada permukaan wafer dibuat tetap dalam kisaran ±0,1°C. Kompatibilitas dengan ruang bersih kelas 1–100 dicapai melalui penggunaan bahan-bahan yang minim mengeluarkan gas dan tidak menghasilkan partikel. Sistem ini beroperasi 24/7 dengan jadwal perawatan yang dapat diprediksi, sehingga tidak ada masa henti yang tak terduga.

(Tokyo) on Infrared Quartz Heating Systems

TEL (Tokyo Electron) lampu pemanas