<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotoreticolato on Infrared Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://ir-qz-heating.com/it/tags/fotoreticolato/</link>
		<description>Recent content in Fotoreticolato on Infrared Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-qz-heating.com/it/tags/fotoreticolato/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Temperatura di cottura a bassa temperatura del photoresist IR</title>
				<link>http://ir-qz-heating.com/it/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-qz-heating.com/it/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-qz-heating.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Temperatura di cottura a bassa temperatura del photoresist IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nel processo di litografia, anche un’oscillazione di mezzo grado durante la fase di essiccazione del fotorester non è una cosa trascurabile. Ciò si manifesta in variazioni nella larghezza delle linee, nell’accumulo di solventi e in una riduzione della qualità del prodotto finito; tali problemi non possono essere spiegati attraverso semplici controlli di qualità. Abbiamo progettato i nostri moduli per l’essiccazione a infrarossi proprio per eliminare queste incertezze: l’essiccazione dei wafer e il trattamento del fotorester richiedono infatti temperature precise e ripetibili, e non congetture.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
