<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bakar on Infrared Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://ir-qz-heating.com/ms/tags/bakar/</link>
		<description>Recent content in Bakar on Infrared Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-qz-heating.com/ms/tags/bakar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Suhu pembakaran lembut untuk bahan photoresist jenis IR</title>
				<link>http://ir-qz-heating.com/ms/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-qz-heating.com/ms/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-qz-heating.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Suhu pembakaran lembut untuk bahan photoresist jenis IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di kawasan litografi, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah perkara yang boleh diabaikan. Perubahan ini akan menyebabkan perubahan ketebalan garisan pada permukaan wafer, peningkatan kepekatan pelarut, dan penurunan kadar pengeluaran yang tidak dapat dijelaskan melalui audit biasa. Kami telah mencipta modul pemanasan IR untuk mengurangkan ketidakpastian ini, kerana proses pengeringan wafer dan pemprosesan bahan fotoresist memerlukan suhu yang konsisten, bukan sekadar tekaan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting sebenarnya?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami memadankan pancaran inframerah berfrekuensi rendah dengan jalur penyerapan pelarut fotoresist yang biasa digunakan. Dengan cara ini, tenaga akan disalurkan terus ke lapisan fotoresist tanpa menyebabkan suhu substrat menjadi terlalu tinggi. Hasilnya ialah pemanasan yang cepat dan konsisten, dengan variasi suhu sekitar ±0.1°C di &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;seluruh&lt;/a&gt; permukaan wafer. Sistem ini dikawal secara automatik menggunakan sensor yang telah dikalibrasi, sehingga proses pemanasan dapat dilakukan dengan tepat, tanpa campur tangan manusia. Sistem ini beroperasi dalam persekitaran bersih kelas 1–100, dan direka agar tidak menghasilkan sebarang zarah kontaminan, sekaligus mengurangkan jumlah kecacatan pada wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
