http://ir-qz-heating.com/ms/tags/kwarsa/ Recent content in Kwarsa on Infrared Quartz Heating Systems Hugo ms Wed, 22 Jul 2026 04:43:33 +0800 http://ir-qz-heating.com/ms/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ Wed, 22 Jul 2026 04:43:33 +0800 http://ir-qz-heating.com/ms/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Pelindung kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi"></p> <h1 id="jangan-sia-siakan-tenaga-yang-digunakan-dalam-proses-pembuatan-wafer">Jangan sia-siakan tenaga yang digunakan <a href="https://o-yate.net">dalam</a> proses pembuatan wafer</h1> <p>Mari kita jujur: membuang tenaga dalam proses pembuatan wafer sebenarnya merupakan kelemahan reka bentuk. Apabila lampu berkuasa tinggi digunakan untuk memanaskan wafer, sejumlah besar tenaga inframerah akan tersebar ke segala arah, bukannya ke tempat yang sebenarnya diperlukan. Kita boleh atasi masalah ini dengan menggunakan pelindung berbahan kaca kuarsa yang dilapisi emas.</p> <p>Anggaplah pelindung ini sebagai cermin berkualiti tinggi. Ia bukan sahaja melindungi lampu tersebut, tetapi juga memastikan setiap watt tenaga disalurkan secara langsung ke wafer.</p> http://ir-qz-heating.com/ms/posts/quartz-heater-tube-for-fab-oven/ Wed, 01 Jul 2026 12:30:51 +0800 http://ir-qz-heating.com/ms/posts/quartz-heater-tube-for-fab-oven/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Tiub pemanas kuarsa untuk ketuhar fabrikasi"></p> <p>Di kilang pengeluaran, proses pembakaran bahan fotoresistan bukanlah sekadar langkah pemanasan sahaja. Ia merupakan proses yang penting dalam proses litografi. Jika suhu pembakaran berubah walaupun sebanyak 1°C, ia akan menyebabkan perubahan pada parameter <a href="https://o-yate.net">seperti</a> sudut dinding sisi wafer, serta peningkatan kekerapan kecacatan pada wafer tersebut. Tiub pemanas kuarsa dalam oven perlu memberikan haba yang konsisten—tanpa penghasilan zarah-zarah tambahan atau perubahan suhu yang tidak diinginkan.</p> <p><strong>Apa yang penting di sebaliknya</strong><br> Kami merekabentuk tiub-tiub ini agar dapat mengekalkan suhu yang stabil untuk wafer tipis, serta memastikan kualiti proses litografi yang tinggi. Di kawasan aktif, suhu harus kekal stabil pada tahap ±0.1°C, tanpa berlaku perubahan drastik walaupun beban kerja berubah-ubah. Gelombang inframerah sederhana membantu mempercepat proses pemanasan, sehingga masa yang diperlukan untuk proses pemanasan menjadi lebih singkat.</p>