Mengeringkan on Infrared Quartz Heating Systems

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Wed, 22 Jul 2026 04:30:06 +0800

Mengurangkan Penggunaan Karbon dalam Proses Pengeringan Wafer MEMS

Kami telah menggantikan ketuhar konvensional yang lama dan tidak cekap itu dengan lampu pemanas inframerah semasa proses pengeringan wafer sensor MEMS. Tujuannya sangat jelas: mempercepatkan proses pengeringan wafer agar air dapat disingkirkan dengan lebih cepat, sekaligus mengurangkan penggunaan tenaga.

Jika anda pernah bekerja di kilang pembuatan, anda pasti tahu betapa banyak tenaga yang diperlukan untuk memanaskan udara dalam kuantiti yang besar hanya untuk mengeringkan sekeping silikon yang kecil. Ini merupakan pembaziran tenaga. Dengan beralih kepada kaedah “Pabrik Hijau”, kita dapat mengelakkan pembaziran tenaga tersebut.

Ujian penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Thu, 09 Jul 2026 05:09:20 +0800

Pendahuluan
Kami mencipta lampu pemanas inframerah ini dengan satu tujuan utama, iaitu untuk digunakan di kilang pengeluaran semikonduktor. Ini kerana semasa melakukan penilaian penggunaan tenaga, kita memerlukan haba yang dapat disasarkan ke kawasan tertentu, bukan haba yang tersebar ke seluruh kawasan sekeliling.

Pemanasan konvensional biasanya memanaskan udara secara menyeluruh, dan ini bermakna tenaga dibazirkan. Pendekatan kami yang menggunakan haba terarah memastikan haba sampai ke kawasan yang diperlukan sahaja. Dengan cara ini, masalah bahagian dalam peralatan semikonduktor yang menjadi terlalu panas dapat diatasi, kerana haba tidak tersebar ke tempat yang tidak sepatutnya.

Lampu pengeringan wafer sel suria

Wed, 24 Jun 2026 03:54:59 +0800

Lihatlah bagaimana keping wafer terpisah daripada stesen pengeringan yang basah. Jika lampu pengeringan tidak berfungsi dengan baik, kelembapan akan tetap ada di sekitar keping wafer tersebut, dan akibatnya lapisan fotoresist akan mula terkelupas. Ini akan menjejaskan kualiti produk yang dihasilkan. Kami telah merancang lampu pengeringan untuk sel suria ini agar perkara ini dapat dielakkan.

Apa yang penting ialah penggunaan pancaran cahaya NIR untuk memanaskan keping wafer dengan cepat, tanpa merosakkan lapisan bawahnya. Kestabilan suhu pada permukaan keping wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, jadi proses pengeringan dapat dilakukan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Lampu ini boleh digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa menambahkan zarah-zarah yang boleh merosakkan produk. Anda akan mendapat kawalan yang tepat terhadap suhu, masa operasi yang stabil, serta hasil yang konsisten walaupun selepas 5,000 jam penggunaan.