Temperatura de cozimento suave do fotoresista em infravermelhos

Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800

Na área de litografia, uma variação de meio grau durante o processo de endurecimento do fotoresista não é algo desprezível. Isso se manifesta como variações na largura das linhas, retenção de solventes e perda de produtividade, situações que nenhuma auditoria consegue explicar. Criamos nossos módulos de endurecimento por IR justamente para eliminar essa incerteza, pois a secagem dos wafers e o processamento do fotoresisto exigem um calor constante, e não estimativas arbitrárias.

O que realmente importa Nós combinamos emissores de infravermelho de onda curta com a faixa de absorção dos solventes utilizados nos fotoresistas, assim a energia é direcionada diretamente ao filme, sem superaquecer o substrato. O resultado é um aquecimento rápido e sem contato, com uniformidade de ±0,1°C em toda a superfície do wafer. O controle é feito por meio de sensores calibrados e um perfil térmico definido para cada processo – endurecimento suave, endurecimento intenso ou endurecimento pós-aplicação – sem que haja variações causadas pelo operador. O sistema funciona em salas limpas de classe 1–100, e foi projetado para evitar a geração de partículas, mantendo assim o número de defeitos no wafer baixo.

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