Aquecedor CVD (Deposição de Vapor Químico)

Thu, 04 Jun 2026 03:25:34 +0800

No chão de fábrica, um nó de 5nm não permite margem para variação de temperatura. Um ponto quente na câmara CVD significa desuniformidade de espessura, deriva na estequiometria e wafers que são descartados antes mesmo de saírem da ferramenta. Esse aquecedor precisa estar exatamente onde a receita determina, em cada ciclo.

O que importa, tecnicamente
Construímos o aquecedor CVD com elementos de infravermelho de onda curta que aplicam um campo térmico controlado sobre o susceptor — foco preciso, submilimétrico. A uniformidade no wafer fica dentro de ±0,1°C, com repetibilidade do setpoint mantida entre lotes e turnos. A resposta é rápida o suficiente para acompanhar as etapas da receita sem ultrapassagem, evitando danos ao estresse do filme ou à seletividade da deposição.
O corpo é feito de quartzo e cerâmicas de alta pureza, escolhidos para manter a geração de partículas próxima de zero — pois em uma sala limpa Classe 1–100, isso não é um diferencial, é requisito básico. A saída permanece estável por mais de 5.000 horas, com deriva inferior a 5%.

Deposição) on Infrared Quartz Heating Systems

Aquecedor CVD (Deposição de Vapor Químico)