Lâmpada de aquecimento TEL (Tokyo Electron)

Thu, 18 Jun 2026 04:07:52 +0800

No processo de litografia, uma variação de temperatura de 0,5°C durante o processo de secagem do fotorresist é suficiente para fazer com que as dimensões críticas fiquem fora dos padrões exigidos, resultando em grandes perdas. As lâmpadas de aquecimento da TEL são projetadas levando em consideração o fato de que a temperatura não é apenas um valor exibido na tela – ela representa o “orçamento térmico” necessário para processar o material.

O que realmente importa por trás disso tudo
Nós utilizamos lâmpadas de infravermelho de onda curta, com controle preciso do espectro de radiação, de modo que elas possam atingir a superfície do wafer de maneira eficaz, repetidamente. A uniformidade da temperatura ao longo da superfície do wafer fica entre ±0,1°C. A compatibilidade com salas limpas de classe 1–100 se deve ao uso de materiais que emitem pouca gás e que não geram partículas. O sistema funciona 24/7, com períodos de manutenção previsíveis, evitando assim interrupções não planejadas no processo de produção.

Eletrão) on Infrared Quartz Heating Systems

Lâmpada de aquecimento TEL (Tokyo Electron)