http://ir-qz-heating.com/ru/tags/%D0%BA%D0%B2%D0%B0%D1%80%D1%86/ Recent content in Кварц on Infrared Quartz Heating Systems Hugo ru Wed, 22 Jul 2026 04:43:33 +0800 http://ir-qz-heating.com/ru/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ Wed, 22 Jul 2026 04:43:33 +0800 http://ir-qz-heating.com/ru/posts/quartz-glass-shield-for-fab-lamp/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Защитный кварцевый стеклянный экран для лампы для фабрикации"></p> <p>Прекратите тратить энергию зря на производстве полупроводниковых пластин<br> Давайте будем честны: потрата энергии на производстве полупроводниковых пластин – это, по сути, дефект в проектировании оборудования. Когда используются мощные лампы для нагрева пластин, огромное количество инфракрасной энергии просто рассеивается во все стороны. Она излучается назад, во все направления, кроме того, где ей действительно нужно. Мы решаем эту проблему с помощью защитных экранов из кварцевого стекла, покрытого золотом.</p> <p>Можно считать их своего рода зеркалами высокого качества. Они не только закрывают лампу, но и направляют всю энергию прямо на пластину.</p> http://ir-qz-heating.com/ru/posts/quartz-heater-tube-for-fab-oven/ Wed, 01 Jul 2026 12:30:51 +0800 http://ir-qz-heating.com/ru/posts/quartz-heater-tube-for-fab-oven/ <p><img src="http://ir-qz-heating.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Трубка кварцевого нагревателя для печи для производства"></p> <p>На производственном участке процедура высушивания фотопленки не является просто этапом подготовки оборудования к работы. Это важный этап самого процесса литографии. Если изменить температуру высушивания даже на 1°C, это приведет к смещению параметров изображения, изменению угла наклона боковых стенок структуры и увеличению количества дефектов. Кварцевые нагревательные элементы печи должны обеспечивать стабильное нагревание без образования частиц и без каких-либо отклонений.</p> <p><strong>Что имеет значение внутри печи</strong><br> Мы разрабатываем эти нагревательные элементы с учетом требований к температурному режиму тонких пластин и необходимости стабильности при проведении процедуры литографии. В активной зоне температура должна оставаться стабильной в пределах ±0,1°C, чтобы значения температуры не менялись под воздействием переменных нагрузок. Средний инфракрасный диапазон позволяет быстро достигать нужной температуры, что сокращает время цикла обработки.</p>