การอบแห้งด้วยคลื่นอินฟราเรดสำหรับกาวใช้ในวงจรระบบเซมิคอนดักเตอร์

Thu, 02 Jul 2026 08:21:27 +0800

ในโรงงานผลิตชิปนั้น “การทำให้กาวแข็งตัว” ไม่ใช่เพียงแค่กระบวนการอบธรรมดาๆ เท่านั้น แต่เป็นกระบวนการที่ต้องควบคุมอุณหภูมิอย่างเข้มงวด เพราะส่งผลโดยตรงต่อคุณภาพของชิป หลักการเดียวกันนี้ก็ใช้ได้กับกระบวนการอบกาวชนิด Photoresist ด้วย โดยอุณหภูมิจะต้องคงที่เสมอ ส่วนกาวที่ใช้ในการยึดชิปก็ต้องมีความสม่ำเสมอเช่นกัน หากอุณหภูมิไม่คงที่ ก็จะส่งผลให้เกิดปัญหาต่างๆ เช่น การยึดเกาะที่ไม่ดี หรือความเสียหายของชิประหว่างการบรรจุ

สิ่งที่เรานำมาใช้ในระบบ
เราใช้แหล่งกำเนิดแสงอินฟราเรดที่มีความยาวคลื่นใกล้เคียงกับแสงอินฟราเรดชนิด NIR เพื่อให้พลังงานไปยังตำแหน่งที่จำเป็นได้อย่างรวดเร็ว โดยไม่ทำให้อุณหภูมิสูงเกินไป บริเวณที่มีอุณหภูมิสูงจะมีความสม่ำเสมออยู่ที่ ±0.1°C และห้องปฏิบัติการนี้ถูกออกแบบมาให้สามารถใช้งานในห้องปลอดฝุ่นระดับ Class 1–100 ได้ โดยมีการควบคุมปริมาณฝุ่นให้อยู่ในระดับต่ำที่สุด ความสม่ำเสมอของอุณหภูมิระหว่างการผลิตช่วยให้กระบวนการอบกาวและการทำให้กาวแข็งตัวเป็นไปตามมาตรฐานที่กำหนด

เหตุใดจึงทำให้ระบบนี้มีประสิทธิภาพในการผลิต
ในการผลิตจริง สิ่งที่ได้รับคือความสม่ำเสมอของขนาดชิป และลดจำนวนชิปที่ต้องถูกทำใหม่ แสงอินฟราเรดช่วยให้กาวแข็งตัวได้อย่างสม่ำเสมอ ซึ่งช่วยลดความเครียดทางความร้อน และป้องกันไม่ให้เกิดปัญหาการแข็งตัวที่ไม่สม่ำเสมอในบริเวณต่างๆ ของชิป นอกจากนี้ ยังช่วยให้มีวงจรการอบที่สั้นลง โดยยังคงควบคุมอุณหภูมิได้อย่างดี และยังช่วยลดการใช้ก๊าซเมื่อเทียบกับเตาอบแบบใช้ลมร้อน นอกจากนี้ ความแข็งแรงของการยึดชิปก็ยังคงสม่ำเสมอ ซึ่งหมายความว่าจะมีชิปที่เสียหายน้อยลง มีเวลาการผลิตที่แน่นอน และใช้พลังงานน้อยลงต่อชิปหนึ่งชิ้น

สิ่งที่ควรคำนึงถึง
การใช้แสงอินฟราเรดนั้นต้องมีทิศทางการส่องที่ชัดเจน ดังนั้นรูปร่างของชิปและการบดบังแสงจึงมีความสำคัญ ชิปที่มีส่วนที่สูงอาจต้องการเวลาอบที่นานขึ้น หรืออาจต้องมีการอบซ้ำอีกครั้ง เพื่อให้กาวยึดชิปได้อย่างสมบูรณ์ เราออกแบบอุปกรณ์ให้มีความสามารถในการส่องแสงได้อย่างมีประสิทธิภาพ แต่ก็ยังต้องมีการตรวจสอบคุณภาพของชิปในแต่ละขั้นตอนการผลิตอยู่ดี

กาว on Infrared Quartz Heating Systems

การอบแห้งด้วยคลื่นอินฟราเรดสำหรับกาวใช้ในวงจรระบบเซมิคอนดักเตอร์