<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Фотополімер on Infrared Quartz Heating Systems</title>
		<link>http://ir-qz-heating.com/uk/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D0%BF%D0%BE%D0%BB%D1%96%D0%BC%D0%B5%D1%80/</link>
		<description>Recent content in Фотополімер on Infrared Quartz Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-qz-heating.com/uk/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D0%BF%D0%BE%D0%BB%D1%96%D0%BC%D0%B5%D1%80/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Температура пом якшення фотопротектора під дією інфрачервоного світла</title>
				<link>http://ir-qz-heating.com/uk/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:40:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-qz-heating.com/uk/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-qz-heating.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Температура пом якшення фотопротектора під дією інфрачервоного світла&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні пластини напівградусна відхилення під час процедури „м’якого просушування“ фотополімеру не є тривіальною проблемою. Це призводить до зміни ширини ліній, затримки висихання розчинника та зниження якості продукції – чого неможливо пояснити жодним аудитом. Ми створили спеціальні модулі для процедури „м’якого просушування“, щоб усунути цю невизначеність. Адже для сушіння пластин та обробки фотополімеру потрібна точка нагріву, яка можна передбачити, а не лише припускати її значення.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у цьому процесі&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми підбираємо емітери короткохвильового інфрачервоного випромінювання так, щоб вони відповідали діапазону поглинання розчинників фотополімеру. Таким чином енергія потрапляє безпосередньо в шар фотополімеру, без перегріву самої пластини. Результатом є швидке та однорідне нагрівання з точністю до ±0,1°C по всій поверхні пластини. Контроль здійснюється за допомогою каліброваних датчиків та теплового профілю, який можна налаштувати відповідно до конкретної процедури – чи то м’яке, чи жорстке просушування. Система працює у умовах чистої кімнати класу 1–100, що запобігає утворенню частинок на поверхні пластини.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
