בתהליך FO-WLP, שלב האפייה הוא זה שבו האיכות של המוצר יורדת בהדרגה. אפייה עדינה, שבה הטמפרטורה עולה ב-2°C בלבד, עלולה לפגוע באיכות החומר הפוטורזיסטי. לעומת זאת, אפייה אינטנסיבית עלולה לגרום לבעיות כמו חורים בחומר ועיוותים. יש צורך לשמור על אחידות טמפרטורית לאורך כל שטח הוואפר, בעוד הזמן עובר.
מה חשוב מבחינה טכנית? יצרנו מערכת חימום לרמת הוואפר, שמשמשת את אובני האפייה והפלטות החם שנמצאות בין שלב הליתוגרפיה לשלב הייצור. גופי הפליטה של קרינת הלוגן מאפשרים תגובה מהירה וישירה, ואנו שומרים על אחידות טמפרטורית של ±0.1°C בכל שטח הוואפר. גוף החימום עשוי מקוורץ וקרמיקה באיכות גבוהה, כך שהיווצרות חלקיקים נשארת קרובה לאפס בחדרי ניקיון מסוג Class 1–100.
האחידות של הטמפרטורה היא ±0.2°C בין כל פעולת אפייה, כך שהפרופילים של האפייה נשארים במסגרת המפרטים הנדרשים. השליטה בטמפרטורה נעשית באמצעות מערכת PID, ויש גם אפשרות לשליטה מדויקת בקצב החימום ובזמן האפייה.
למה זה עובד ב-FO-WLP? ב-FO-WLP, הרכיבים השונים מונחים יחד בחומר המולד, ולאחר מכן מתבצעת חלוקה מחודשת של החיבורים. האיזון התרמי קריטי – יש צורך לאפשר את פעולת החומר הפוטורזיסטי מבלי לגרום לנדידת נחושת או ללחץ תרמי. מערכת החימום שלנו שומרת על קו האפייה בדיוק, כך שהשליטה בממדים הקריטיים משתפרת והסיכון לבעיות פוחת.
האחידות הגבוהה מפחיתה את שיעור הכישלונות בשלב ה-RDL, והאפשרות לשליטה מדויקת מקצרת את זמן האימונים של המערכת. צריכת האנרגיה יורדת, מכיוון שגופי הפליטה מחממים את הוואפר רק כשצריך, ובכך נמנעת אגירת חום. המערכת מיועדת לפעולה 24/7, תוך התחשבות בזמני התחזוקה המתוכננים, ולא בזמני עצירה בלתי צפויים.
כמה הערות פרקטיות מערכת החימום מתאימה לרוב פלטות החם של FO-WLP, אך ההתקנה תלויה במבנה המכני, בשיטות החיבור ובמסלולי האוורור. יש להתאים את המתח וסוג החיבור לציוד שלכם. לאחר החלפת הנורה, יש תקופת יציבות קצרה – יש לתכנן זאת בתוך לוח הזמנים של התחזוקה, כדי שהפרופילים של האפייה יישארו במסגרת המפרטים הנדרשים.