Pada proses FO-WLP, langkah pembakaran merupakan titik di mana kualiti produk boleh menurun secara senyap-senyap. Pembakaran yang dilakukan pada suhu yang terlalu rendah akan mengganggu profil fotoresist yang digunakan. Sebaliknya, pembakaran yang dilakukan pada suhu yang terlalu tinggi pula akan menyebabkan masalah seperti ruang kosong di bawah lapisan pelindung dan kelengkungan permukaan wafer. Kita perlu memastikan suhu di seluruh permukaan wafer tetap seragam, sementara masa untuk proses pembakaran terus berjalan.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami telah mencipta pemanas untuk proses pembakaran ini, yang digunakan pada ketuhar pembakaran dan pelantar panas yang terletak antara proses litografi dan proses pembentukan acuan. Pemancar gelombang pendek jenis halogen memberikan respons yang cepat, dan suhu di seluruh permukaan wafer dapat dikawal dengan tepat hingga ±0.1°C. Badan pemanas tersebut diperbuat daripada kuarsa dan seramik berkualiti tinggi, sehingga penghasilan zarah-zarah berbahaya dapat diminimumkan dalam bilik bersih kelas 1–100.
Ketepatan suhu adalah ±0.2°C untuk setiap kali proses pembakaran dilakukan, jadi profil pembakaran dapat dikawal dengan tepat. Sistem kawalan menggunakan prinsip PID, dan ia juga disokong oleh sistem SECS/GEM, agar parameter seperti suhu, kadar peningkatan suhu, dan masa pembakaran dapat dikawal dengan tepat.
Mengapa cara ini berkesan untuk FO-WLP
Dalam proses FO-WLP, komponen-komponen yang berbeza disusun bersama dalam bahan acuan, kemudian saluran I/O dialihkan semula. Penggunaan tenaga haba perlu dikawal dengan teliti; kita perlu memastikan bahawa proses aktivasi fotoresist berjalan lancar tanpa menyebabkan perpindahan tembaga atau tekanan akibat perubahan suhu. Pemanas ini membolehkan kurva pembakaran dikawal dengan tepat, sehingga kawalan dimensi penting dapat ditingkatkan, dan risiko kecacatan pada permukaan wafer dapat dikurangkan.
Ketepatan suhu yang tinggi juga membantu mengurangkan jumlah produk yang gagal disebabkan masalah di bahagian tepi wafer. Selain itu, ketepatan proses pembakaran juga memendekkan masa yang diperlukan untuk ujian kualiti. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemancar haba hanya akan beroperasi apabila diperlukan, tanpa memerlukan banyak tenaga haba. Pemanas ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan penyelenggaraan yang dirancang dengan baik, bukan sekadar waktu henti yang tidak dirancang.
Beberapa perkara praktikal
Pemanas ini sesuai untuk kebanyakan pelantar panas FO-WLP. Namun, integrasinya bergantung pada reka bentuk mekanikal, sistem vakum, dan cara pengaliran udara. Pastikan voltan dan jenis konektor sesuai dengan alat yang digunakan. Selepas penggantian lampu, terdapat tempoh penstabilan yang singkat; pastikan ia dilakukan semasa waktu penyelenggaraan, agar profil pembakaran tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.