Dalam proses litografi, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist sudah cukup untuk menyebabkan dimensi komponen berubah daripada spesifikasi yang ditetapkan, sehingga membuang banyak produk yang tidak berkualiti. Lampu pemanas TEL direka dengan mengambil kira fakta bahawa suhu bukan sekadar angka pada skrin – ia merupakan faktor penting yang mempengaruhi kualiti produk tersebut.
Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan lampu inframerah gelombang pendek yang mempunyai kawalan spektral yang ketat, agar dapat berfungsi dengan baik bersama bahan kuarsa dan memberikan panas yang efektif kepada wafer. Keseragaman suhu pada permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala keserasian dengan bilik bersih kelas 1–100 dicapai melalui penggunaan bahan yang menghasilkan gas yang sedikit serta tiada zarah terhasil. Sistem ini beroperasi 24/7 dengan jadual penyelenggaraan yang tetap, agar tidak ada gangguan operasi yang tidak dijangka.
Inilah sebabnya mengapa sistem ini sesuai untuk digunakan dalam pengeluaran. Proses pembakaran yang dilakukan secara automatik akan menghasilkan hasil yang konsisten, dengan lebih sedikit kecacatan dan kadar pengeluaran yang lebih tinggi. Penggunaan tenaga juga dapat dikawal dengan baik kerana adanya sistem yang efisien untuk menghubungkan lampu dengan wafer. Kelebihannya ialah kemampuan untuk mendapatkan hasil yang konsisten setiap kali proses pembakaran dilakukan, tanpa mengira syif atau alat yang digunakan.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan: Semasa pemasangan, perlu memastikan bahawa reka bentuk lampu dan antaramuka penyambungnya sesuai dengan spesifikasi alat yang digunakan. Kami menyediakan kit yang telah disahkan untuk platform TEL. Pastikan juga bahawa bahan yang digunakan bersih, dan tetapkan nilai suhu yang sesuai berdasarkan jenis bahan fotoresist yang digunakan. Walaupun perbezaan kecil dalam nilai emisi atau susunan bahan boleh menjejaskan proses pembakaran.