Hentikan pembaziran masa dengan penggunaan udara panas: Mengapa IR merupakan cara yang terbaik untuk proses pembersihan semikonduktor
Mari kita bincangkan tentang masa. Dalam proses pemprosesan semikonduktor, setiap saat yang dibelanjakan untuk menunggu sebenarnya merupakan kerugian kewangan yang besar.
Selama ini, kita bergantung pada penggunaan udara panas untuk mengeringkan permukaan semikonduktor. Namun, masalahnya ialah udara panas memerlukan masa yang lama untuk berfungsi. Ia bergantung pada proses konveksi, yang bermakna kita perlu memanaskan seluruh ruang tersebut hanya untuk mengeringkan satu keping wafer sahaja. Pada hakikatnya, kita sedang memanaskan keseluruhan bilik, padahal yang kita perlukan hanyalah bahagian tertentu sahaja.
Itulah sebabnya lampu IR digunakan. Daripada memanaskan udara, lampu IR mengeluarkan tenaga radiasi secara langsung ke permukaan semikonduktor. Tenaga ini akan menguapkan kelembapan pada permukaan semikonduktor dengan cepat. Ini bermakna proses pengeringan dapat dilakukan dalam masa beberapa saat sahaja, berbanding dengan beberapa minit sebelum ini. Perbezaannya sangat ketara.
Mungkin anda akan berfikir, “Tunggu, ini kan proses pembersihan. Permukaannya masih basah.” Anda betul. Lampu biasa mungkin akan rosak jika ada titisan air yang jatuh ke atasnya. Itulah sebabnya kita menggunakan lampu yang mempunyai sistem pelindungan khas dan selubung kuarsa. Lampu-lampu ini direka untuk tahan terhadap tekanan yang tinggi. Walaupun ada titisan air yang terbang di sekelilingnya, lampu-lampu ini tetap berfungsi tanpa rosak.
Sudah tentu, ini bukanlah sesuatu yang ajaib. Ada beberapa perkara yang perlu diperhatikan. Kerana panas yang dihasilkan oleh lampu IR sangat cepat, mudah sekali untuk melebihi suhu yang diinginkan jika pengawal PID tidak dikonfigurasikan dengan betul. Anda juga perlu memastikan bekalan kuasa mencukupi. Menggantikan motor peniup udara dengan lampu IR akan mengubah beban elektrik yang diperlukan. Sebelum menyalakan lampu tersebut, pastikan panel elektrik anda mampu menanggung arus maksimum semasa proses permulaan.
Namun, setelah semua itu diselesaikan, kelajuan proses pemprosesan akan menjadi sangat tinggi. Dengan menghilangkan fasa “pemanasan” yang membuang masa, lebih banyak wafer dapat diproses setiap jam. Ini merupakan penyelesaian yang mudah untuk mengatasi masalah utama dalam proses pemprosesan semikonduktor.