Litografi işlemlerinde, foto-rezistin ısıtılması sırasında meydana gelen 0,5°C’lik bir sıcaklık değişimi bile kritik boyutların standartların dışına çıkmasına ve büyük miktarda ürünün atılmasına neden olabilir. TEL ısıtıcı lambaları, sıcaklığın sadece ekrandaki bir değer olmadığı gerçeğine dayanarak tasarlanmıştır; sıcaklık, desenin termal özelliklerini belirleyen bir faktördür.
Aslında önemli olan şeyler
Kısa dalga boylu kızılötesi lambaları, kuvarsın emilim özelliklerine uygun şekilde ve tekrar tekrar wafer üzerine etki edebilecek şekilde seçiyoruz. Wafer üzerindeki sıcaklık düzgünlüğü ±0,1°C aralığında tutulur. Temiz oda sınıfları 1–100 arasında olup, bu da düşük gaz salımı ve hiçbir parçacık oluşmaması sayesinde mümkün olur. Sistem, planlanmış bakım süreleriyle 24/7 çalışır; böylece beklenmedik duruşlar üretimi olumsuz etkilemez.
Üretimde başarıya ulaşmasının nedeni budur. Yumuşak ve sert ısıtma işlemleri artık operatöre bağlı kalmaz ve istikrarlı, tekrarlanabilir prosedürler haline gelir. Böylece tutarlı bir foto-rezist akışı elde edilir, hatalar azalır ve üretim verimi artar. Ayrıca, lambaların wafer ile etkili bir şekilde bağlanması sayesinde enerji tüketimi de kontrol altında tutulur. Sonuç olarak, her seferinde aynı termal profil elde edilir.
Birkaç pratik ipucu: Lambanın yapısı ve konektör arayüzü, kullanılacağı cihaza uygun olmalıdır. Biz TEL platformları için önceden test edilmiş kitler sunuyoruz. Temiz bir ortamda işlem yapılmalı ve sıcaklık ayarları da foto-rezistin özelliklerine göre belirlenmelidir. Emissivitede veya substrat yapısında küçük bir fark bile ısıtma sürecini etkileyebilir.