In der Lithografieabteilung reicht bereits eine Temperaturänderung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses des Photoresists aus, um die kritischen Abmessungen außerhalb der gesetzten Spezifikationen zu bringen – was wiederum dazu führt, dass viele Produkte als unbrauchbar gelten. Die Heizlampen von TEL sind so konzipiert, dass sie berücksichtigen, dass Temperatur nicht nur eine Zahl auf dem Bildschirm ist – sondern vielmehr ein wichtiger Faktor für die Qualität des Ergebnisses.
Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Infrarotlampen mit präziser Spektralkontrolle – dadurch passen sie zur Absorptionseigenschaften des Quarzes und können den Wafer immer wieder effektiv erwärmen. Die Homogenität der Temperatur auf der Oberfläche des Wafers liegt bei ±0,1 °C. Die Kompatibilität mit Reinräumen der Klassen 1–100 wird durch Materialien mit geringer Gasemission sowie durch das Fehlen von Partikeln gewährleistet. Das System arbeitet 24/7 – mit vorhersehbaren Wartungsintervallen – sodass es zu keinen unplanmäßigen Stillständen kommt.
So kann das System in der Produktion effektiv eingesetzt werden. Sowohl der sanfte als auch der intensive Trocknungsprozess sind dann nicht mehr vom Bediener abhängig – sie verhalten sich stattdessen wie stabile, wiederholbare Prozesse. Dadurch entstehen konsistente Ergebnisse, weniger Defekte und bessere Erträge – während der Energieverbrauch dank einer effizienten Verbindung zwischen Lampe und Wafer unter Kontrolle bleibt. Der Vorteil ist somit die Reproduzierbarkeit: Dasselbe Temperaturprofil wird batch für Batch, Schicht für Schicht erzielt.
Ein paar praktische Hinweise
Bei der Installation muss die Form des Lampengehäuses sowie die Anschlussform an die jeweilige Trockenungsanlage angepasst werden. Wir unterstützen TEL-Plattformen mit vorausgetesteten Kit-Lösungen. Achten Sie außerdem darauf, den Wafer sorgfältig zu handhaben – und überprüfen Sie die Temperaturwerte im Vergleich zu den Eigenschaften des Photoresists. Selbst kleine Unterschiede in der Emissivität oder der Struktur des Substrats können dazu führen, dass die Trocknungskurve beeinflusst wird.