Op de lithografieafdeling is een afwijking van een halve graden tijdens het ‘soft bake’-proces van de fotoresist geen onbelangrijk detail. Deze afwijkingen leiden tot variaties in de dikte van de lijnen, tot behoud van oplosmiddelen in de fotoresist, en tot een daling van de opbrengst. Dit kan door geen enkele controle worden verklaard. Wij hebben onze IR-soft bake-modules ontworpen om deze onzekerheden weg te nemen. Want bij het drogen van de schijven en het verwerken van de fotoresist is het belangrijk dat er een consistente hitte wordt toegepast, zonder dat er gespeculeerd hoeft te worden.
Wat echt belangrijk is Wij passen de kortegolf-Infrarood-emitters aan op de absorptiebanden van de gebruikelijke oplosmiddelen voor fotoresist. Hierdoor gaat de energie rechtstreeks naar de fotoresist, zonder dat het substraat oververhit raakt. Het resultaat is een snelle, contactlozeVerwarming met een uniformiteit van ±0,1°C over het hele oppervlak van de schijf. De controle vindt plaats via geschaalde sensoren en een thermisch profiel dat precies kan worden ingesteld voor elk proces – zowel voor het ‘soft bake’, ‘hard bake’ als het proces na het aanbrengen van de fotoresist. Het systeem werkt in een schone ruimte van klasse 1–100 en is zo ontworpen dat er geen deeltjes worden gegenereerd. Hierdoor blijft het aantal defecten op de schijven minimaal.
Dit is waarom deze aanpak in de praktijk werkt. Bij het drogen van schijven zorgt Infrarood voor een snelle en gelijkmatige verwarming, waardoor overtollig vocht snel en consistent kan worden verwijderd. Bij het verwerken van fotoresist zorgt deze precisie voor een stabiele viscositeit, een constante dikte en een nauwkeurige controle van de belangrijkste dimensies. Ook bij het harden en schoonmaken van pakketten heeft dit effect: de thermische omstandigheden blijven constant, waardoor er minder problemen zijn. De werktijd is dus de echte indicator: deze apparaten werken 24/7 met minimale onderhoudskosten. De reproduceerbaarheid zorgt bovendien voor minder herwerkzaamheden en minder kosten die gepaard gaan met het opnieuw kalibreren van processen na thermische afwijkingen.
Een paar praktische tips De prestaties van de IR-bake-eenheden hangen af van het feit dat het emissiespectrum goed wordt aangepast aan de chemie van de fotoresist, en dat er een goede zichtlijn is op het oppervlak van de schijf. De oriëntatie van de schijf, de condities aan de achterkant van de schijf en het beheer van de afvoerkanalen kunnen nog steeds invloed hebben op de uniformiteit. Daarom raden wij aan om eerst een kort testproces uit te voeren om het proces perfect af te stemmen. Eenmaal dit gedaan, blijft het proces onder controle – met minder thermische variabiliteit en minder onverwachte problemen.