Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,5°C trong quá trình làm nóng lớp phim cảm quang cũng đủ để khiến các kích thước quan trọng của sản phẩm vượt ra ngoài giới hạn cho phép, dẫn đến việc phải vứt bỏ toàn bộ sản phẩm đó. Các loại đèn sưởi của TEL được thiết kế dựa trên nguyên tắc rằng nhiệt độ không chỉ là con số hiển thị trên màn hình – mà còn là yếu tố quan trọng ảnh hưởng đến chất lượng sản phẩm.
Những điều quan trọng thực sự
Chúng tôi sử dụng các loại đèn hồng ngoại bước sóng ngắn có khả năng kiểm soát phổ ánh sáng chính xác, nhằm đảm bảo rằng ánh sáng này phù hợp với khả năng hấp thụ ánh sáng của khoáng chất quartz, từ đó giúp làm nóng wafer một cách hiệu quả. Độ đồng đều của nhiệt độ trên bề mặt wafer phải được duy trì ở mức ±0,1°C. Để đạt được tiêu chuẩn phòng sạch từ cấp độ 1 đến 100, cần sử dụng các vật liệu có khả năng giảm khí thải và không tạo ra bụi bẩn. Hệ thống hoạt động 24/7 với các lịch trình bảo trì được lên kế hoạch cẩn thận, nhờ đó giúp tránh tình trạng máy ngừng hoạt động một cách bất ngờ.
Đây chính là lý do tại sao quy trình này có thể được áp dụng trong sản xuất hàng loạt. Quá trình làm nóng mềm và làm nóng cứng không còn phụ thuộc vào người vận hành nữa, mà trở thành quy trình ổn định và có thể lặp lại được. Nhờ đó, chất lượng lớp phim cảm quang được đảm bảo, số lượng sản phẩm bị lỗi giảm đi, và tỷ lệ sản phẩm thành phẩm tăng lên. Ngoài ra, việc sử dụng các loại đèn hiệu quả giúp kiểm soát được mức tiêu thụ năng lượng. Kết quả là quy trình sản xuất có tính lặp lại cao: cùng một chế độ nhiệt độ ở mỗi lần sản xuất, dù là ở các ca làm việc khác nhau hay với các thiết bị khác nhau.
Một vài lưu ý thực tế
Khi lắp đặt, cần đảm bảo rằng vỏ đèn và giao diện kết nối phù hợp với từng loại thiết bị được sử dụng. Chúng tôi cung cấp các bộ phụ kiện đã được kiểm chứng sẵn cho các nền tảng TEL. Cần chú ý đến việc xử lý wafer một cách cẩn thận, và kiểm tra lại các thông số nhiệt độ phù hợp với loại phim cảm quang được sử dụng. Ngay cả sự chênh lệch nhỏ về độ phát xạ ánh sáng hoặc cấu trúc của bề mặt wafer cũng có thể ảnh hưởng đến quá trình làm nóng.