Sur la ligne FO-WLP, c’est lors de l’étape de cuisson que le rendement diminue progressivement. Une cuisson légère, avec une variation de température de 2 °C, peut perturber le profil du photorésistant. En revanche, une cuisson intense entraîne des défauts tels que des vides sous le revêtement ou des déformations. Il est donc nécessaire de maintenir une uniformité thermique maximale sur toute la surface de la puce, tout en respectant les délais impartis.
Ce qui est important sur le plan technique Nous avons conçu un système de chauffage adapté aux fours de cuisson et aux plaques chaudes utilisés entre les étapes de lithographie et de moulage. Les émetteurs à halogène à ondes courtes permettent une réaction rapide et précise ; nous parvenons ainsi à maintenir une uniformité de température de ±0,1 °C sur toute la zone active de la puce. Le corps du chauffage est fabriqué en quartz et en céramique de haute pureté, ce qui permet de minimiser la formation de particules dans des chambres propres de classe 1–100.
La répétabilité de la température est de ±0,2 °C d’une séance de cuisson à l’autre, ce qui garantit que les profils de cuisson restent conformes aux spécifications. Le contrôle s’effectue via un système PID, avec prise en charge des protocoles SECS/GEM, ce qui permet de définir des points de consigne, des taux d’augmentation de température et des durées de cuisson précisément.
Pourquoi cela fonctionne bien pour FO-WLP FO-WLP permet d’assembler des puces hétérogènes dans un matériau de moulage, puis de redistribuer les connexions entre elles. Le budget thermique est très serré : il faut éviter toute migration du cuivre ou toute tension due aux coefficients de dilatation thermique. Ce chauffage permet de contrôler précisément la courbe de cuisson, ce qui améliore le contrôle des dimensions critiques et réduit les risques de défauts. L’uniformité de température aide également à réduire les rejets liés aux bords de la puce. De plus, la répétabilité permet de raccourcir les cycles de validation. La consommation d’énergie est réduite, car les émetteurs se réchauffent uniquement lorsque nécessaire, sans nécessiter beaucoup de masse thermique. Ce système est conçu pour fonctionner 24/7, en tenant compte des périodes de maintenance prévues, et non des arrêts imprévus.
Quelques notes pratiques Le chauffage convient à la plupart des plateformes de cuisson FO-WLP. Son intégration dépend cependant de l’enveloppe mécanique, du système de fixation par vide et de l’organisation des canalisations d’écoulement des gaz. Il est essentiel de choisir une tension et un type de connecteur adaptés à votre équipement. Après le remplacement de la lampe, il est nécessaire d’attendre une courte période de stabilisation avant de pouvoir reprendre les processus de cuisson.