もう、無駄な時間を費やすのはやめましょう。半導体の洗浄において、IRランプが最適な手段です。
時間について話しましょう。半導体の製造工程では、待っている1秒1秒が、まるでお金が失われていくようなものです。
長年にわたり、私たちは熱風を使って物を乾燥させてきました。しかし問題は、熱風の速度が遅いということです。対流に頼っているため、ウェーハを乾燥させるだけでかなりの時間がかかります。実際には、ウェーハ自体を乾燥させるだけで十分なのに、部屋全体を温めてしまっているのです。
そこで役立つのが、防水仕様のIRランプです。
熱風を使わずに、IRランプが直接基板に放射エネルギーを当てます。そうすると、水分が瞬時に蒸発します。つまり、数分かかっていた乾燥時間が数秒に短縮されるのです。これは天と地ほどの違いです。
「でも、これは洗浄工程でしょう？中は湿っているはずですよ」と思うかもしれません。
その通りです。普通のランプなら、水滴が当たった瞬間に壊れてしまいます。だからこそ、特別な密封構造や石英製のカバーを持つランプを使用するのです。そうすれば、水滴が飛び交ってもランプは壊れません。
もちろん、これは魔法ではありません。注意すべき点もいくつかあります。
IR熱の影響で、PIDコントローラーの設定が正しくなければ、目標温度を超えてしまう可能性があります。また、電力の管理も必要です。送風機をIRランプに置き換えると、電力負荷が変わります。スイッチを入れる前に、パネルが初期段階でのピーク電流に耐えられるかを必ず確認してください。
しかし、これらの問題を解決すれば、処理速度は信じられないほど速くなります。面倒な「ウォームアップ」の段階を省くことで、1時間あたりに処理できるウェーハの数が大幅に増えます。これは、全体の工程における最大のボトルネックを解消するシンプルな方法です。