Hören Sie auf, Zeit mit unnötigen Verfahren zu verschwenden – warum IR-Strahlung die bessere Lösung für das Reinigen von Halbleitern ist
Lassen Sie uns über Zeit sprechen. Im Halbleiterbereich bedeutet jede Sekunde, die man damit verbringt zu warten, im Grunde genommen Geldverlust.
Schon seit langem werden wir dabei auf die Zirkulation von heißer Luft angewiesen, um Dinge zu trocknen. Doch hier liegt das Problem: Heiße Luft ist langsam in ihrer Wirkung. Sie setzt auf Konvektion – das bedeutet, man muss viel Zeit damit verbringen, einen großen Raum mit Luft zu erhitzen, nur um einen Wafer trocken zu bekommen. Im Grunde wird dabei der ganze Raum erhitzt, obwohl man eigentlich nur den jeweiligen Wafer trocknen will.
Deshalb kommen wasserdichte IR-Lampen ins Spiel. Anstatt die Luft zu erhitzen, strahlen diese Lampen ihre Energie direkt auf den Substrat ab. Dadurch verdampft die Feuchtigkeit fast sofort. Das bedeutet, dass der Trocknungsprozess von Minuten auf Sekunden verkürzt wird – das ist ein riesiger Unterschied.
Jetzt könnten Sie denken: „Aber das sind doch Reinigungsphasen – es ist dort drinnen doch noch feucht.“
Sie haben recht. Eine herkömmliche Lampe würde wahrscheinlich sofort ausfallen, sobald eine Tropfen darauf trifft. Deshalb verwenden wir Lampen mit speziellen Abdichtungen und Quarzkörpern. Sie sind dafür konzipiert, auch unter solchen Bedingungen weiterhin zu funktionieren. Selbst wenn es dort drinnen noch feucht ist, funktionieren diese Lampen weiterhin einwandfrei.
Natürlich ist das nicht ganz ohne Probleme. Es gibt ein paar Dinge, auf die man achten muss.
Da die IR-Strahlung so schnell wirkt, kann es leicht passieren, dass die Zieltemperatur überschritten wird, wenn die PID-Controller nicht richtig eingestellt sind. Man muss auch auf die Leistung achten. Der Austausch eines Lüftermotors gegen eine Reihe von IR-Lampen ändert die elektrische Belastung. Bevor man den Schalter umlegt, sollte man sicherstellen, dass die Geräte die maximale Stromstärke während des Startvorgangs bewältigen können.
Aber sobald das geklärt ist, ist die Produktivität unglaublich hoch. Durch das Eliminieren dieser lästigen „Aufwärmphase“ können pro Stunde viel mehr Wafer bearbeitet werden. Es handelt sich dabei um einen einfachen Ersatz, der den größten Engpass im gesamten Prozess beseitigt.