Bij het proces van FO-WLP is de bakstap degene waarbij de productiegraad langzaam afneemt. Een zachte baktemperatuur die met 2°C verschilt, heeft invloed op het profiel van de fotoresist. Als je echter een hoge temperatuur gebruikt, leidt dat tot oneffenheden en vervormingen. Je moet dus proberen om een evenmatige temperatuur te behouden over het gehele gewerkte oppervlak, terwijl de tijd doorloopt.
Wat technisch gezien belangrijk is
We hebben een heater ontworpen die wordt gebruikt in de bakovens en hete platen die zich bevinden tussen de lithografie- en vormingsstappen. De kortegolfgalogenemitters zorgen voor een snelle en nauwkeurige reactie. We kunnen de temperatuur op het gewerkte oppervlak op ±0,1°C houden. Het lichaam van de heater is gemaakt van kwarts en hoogzuiver keramiek, zodat er nauwelijks deeltjes worden gegenereerd in schone ruimtes van klasse 1–100.
De temperatuurrepetitiebedraagt ±0,2°C per keer dat de heater wordt gebruikt. Hierdoor blijven de parameters van de zachte en harde bakprocessen binnen de vereiste grenzen. De controle vindt plaats via PID-regeling, met SECS/GEM-functionaliteit. Hierdoor kun je de instellingen, vertragingsrates en tijden nauwkeurig bepalen.
Waarom dit werkt bij FO-WLP
Bij FO-WLP worden heterogene componenten in een speciaal materiaal geplaatst, waarna de I/O-verbindingen worden herverdeeld. De thermische omstandigheden zijn zeer strikt: je moet de activatie van de fotoresist goed reguleren, zonder dat er problemen ontstaan met het koper of dat er spanningen optreden. De heater zorgt ervoor dat de temperatuur nauwkeurig wordt gereguleerd, waardoor de controle over de belangrijke dimensies verbetert en het risico op oneffenheden afneemt.
Een goede temperatuurregulatie zorgt er ook voor dat er minder defecten ontstaan aan de randen van het gebied dat wordt bewerkt. Bovendien vermindert de repetitiebedraagde temperatuur de tijd die nodig is voor kalibratie. De energieverbruik neemt af, omdat de emitter alleen dan warmt wanneer dat nodig is, met minimale thermische massa. De heater is ontworpen voor 24/7 gebruik, mits er regelmatig onderhoud wordt uitgevoerd.
Enkele praktische tips
De heater past meestal op alle FO-WLP-hete platen. Echter, de integratie hangt af van de mechanische specificaties, de manier van vasthouden van het apparaat en de routing van de afvoerkanalen. Zorg ervoor dat de spanning en het type connector overeenkomen met die van je apparaat. Na het vervangen van de lamp is er een korte stabilisatietijd nodig; plan dit in binnen het onderhoudsproces, zodat de parameters van de bakprocessen binnen de vereiste grenzen blijven.